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制药厂空气净化系统_制药厂工业空气净化系统设备装置

摘要:制药厂空气净化系统,制药厂空气净化等各种工业,有机废气处理工程中,我公司采用产品:活性炭吸附,光解净化,低温等离子净化器等净化设备。具体看废气成份浓度等由技术人员来设计安装。 制药厂空气净化方法 z直接的是掩蔽法,通过喷淋臭味掩蔽剂,这种比较适合垃圾填埋场等; 物理处理:活性炭或沸石吸附、离子化、臭氧、紫外光解、光触媒氧化、共振量子协同技术; 化学方法:苛性钠、无机或有机酸、亚铁离子等;

制药厂空气净化系统,制药厂空气净化等各种工业,有机废气处理工程中,我公司采用产品:活性炭吸附,光解净化,低温等离子净化器等净化设备。具体看废气成份浓度等由技术人员来设计安装。

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制药厂空气净化方法

直接的是掩蔽法,通过喷淋臭味掩蔽剂,这种比较适合垃圾填埋场等;  物理处理:活性炭或沸石吸附、离子化、臭氧、紫外光解、光触媒氧化、共振量子协同技术;  化学方法:苛性钠、无机或有机酸、亚铁离子等;  生物法:泥炭处理、生物滴滤塔等。 科曼环保www.mdejanelas.com

处理运行成本的话生化法较低,但系统不够稳定、成熟,没有及时性;物理法运行成本其次,系统稳定、成熟,有及时性,对于部分臭气成分无法处理;化学法成本较高,技术难度大。

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制药厂空气净化系统/装置/设备

本净化设备利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体,裂解恶臭气体如:氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC类,苯、甲苯、二甲苯的分子链结构,使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,在高能紫外线光束照射下,降解转变成低分子化合物,如CO2、H2O等。

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制药厂空气净化处理设备利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用,对恶臭气体及其它 ** 性异味有立g见影的清除效果。
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制药厂恶臭气体利用排风设备输入到臭气处理设备后,净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应,使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通过排风管道排出室外。

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